近日，三星電子會長李在镕親自前往德國奧伯科亨，訪問了全球領先的精密光學技術公司蔡司的總部。此次訪問旨在加強三星與蔡司在半導體技術領域的合作，特別是針對EUV（極紫外）光刻技術的深度合作。
蔡司作為ASML EUV光刻機光學系統的獨家供應商，其技術和專利在行業內具有極高的影響力。每臺EUV光刻機中，都包含了大量的蔡司組件，這些組件的精度和性能直接決定了光刻機的整體性能。此外，蔡司在EUV光刻技術領域擁有大量關鍵專利，進一步鞏固了其在這一領域的領先地位。
訪問期間，李在镕與蔡司CEO卡爾·蘭普雷希特等高層進行了深入的交流。雙方就半導體技術的主要發展趨勢、中長期技術路線圖等問題進行了討論，并一致同意進一步擴大在EUV技術和先進半導體設備相關領域的合作。
通過深化合作，三星電子有望在未來的半導體產品上實現性能增強、流程優化和產能提升。這些改進將直接提升三星在半導體代工和存儲器業務領域的競爭力，使其在激烈的市場競爭中占據更有利的位置。
此外，蔡司還計劃在未來幾年內投資數十億韓元在韓國建設研發中心，以加強與三星等韓國企業的戰略合作。這一投資不僅將提升蔡司在亞洲地區的技術影響力，也將為韓國半導體產業的發展注入新的動力。
值得一提的是，三星電子還計劃在今年內實現1cnm（第六代10nm級）內存的量產，并正積極推廣其NPU業務。這一系列的舉措表明，三星正在全力推進半導體技術的研發和應用，以應對日益激烈的市場競爭。
此次李在镕的訪問和雙方的合作深化，無疑為三星和蔡司在未來的半導體技術領域的發展開啟了新的篇章。我們期待雙方能夠繼續攜手合作，共同推動全球半導體技術的進步和發展。
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