電子束光刻機
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euv光刻機怎麼研究出來的?一文讀懂發展歷程與技術挑戰
EUV光刻機,這項代表半導體製造領域高精尖技術的設備,其研發歷程可謂歷盡艱辛,技術難度極高。從1980年代開始,EUV光源的研發就吸引了全球科學研究人員的目光。當時,科學研究人員致力於探索超過4nm至40nm的多個波長,力求找到最適合光刻技術的光源。同時,電子束光刻機、離子束微影等技術也在同步研發中,各種技術路線競爭激烈。
EUV光刻機,這項代表半導體製造領域高精尖技術的設備,其研發歷程可謂歷盡艱辛,技術難度極高。從1980年代開始,EUV光源的研發就吸引了全球科學研究人員的目光。當時,科學研究人員致力於探索超過4nm至40nm的多個波長,力求找到最適合光刻技術的光源。同時,電子束光刻機、離子束微影等技術也在同步研發中,各種技術路線競爭激烈。